TOPCon sel teknologi telah menjadi salah satu yang membawa dua generasi pilihan selepas mono MIN. Tetapi untuk n-jenis seni bina untuk benar-benar menjadi saingan untuk MIN tinggi dan kos efektif teknologi pengeluaran yang harus diselesaikan.

TOPCon, yang jika tidak pergi dengan pelbagai nama, adalah singkatan dari Terowongan Oksida julat saiz lembaran tebal Kenalan. Ia melibatkan mendepositkan dalam skala lapisan silikon oksida, diikuti oleh yang lebih tebal polycrystalline silikon lapisan, antara silikon wafer dan logam kenalan. Lapisan mengurangkan mengenakan rekombinasi antara wafer dan kenalan, meningkatkan pembawa seumur hidup dan menyebabkan kecekapan meningkatkan sekitar 0.5%.

Salah satu pertanyaan yang belum terjawab mengenai TOPCon adalah tepat yang proses pengeluaran akan membuktikan untuk menjadi sangat efektif dalam pengeluaran besar-besaran. Belanda' Tempress telah menjadi salah satu yang paling penting peralatan pembekal untuk TOPCon pengeluar dalam beberapa tahun kebelakangan ini melalui lama berjalan kerjasama dengan TNO Tenaga Peralihan, dahulunya LIHAT – Tenaga Pusat Penyelidikan Belanda.

Tempress bekalan tekanan rendah kimia wap deposisi (LPCVD) alat untuk TOPCon pengeluaran. Pada bulan September tahun 2018, ia mengumumkan bahwa ia telah memasok Trina dengan LPCVD poli peralatan, namun tidak ada susulan perintah diumumkan sejak. Pada masa itu, Trina itu sendiri telah dilaporkan membekalkan sekitar 1 GW Atas Pelari projek di China dengan modul menggerakkan n-jenis TOPCon teknologi.

Bagaimanapun, ada yang dapat menjadi kelemahan untuk LPCVD, dan Trina jurutera memberitahu ef majalah pada bulan desember tahun 2018 yang ia mengalami kekecewaan dalam TOPCon proses, menyatakan bahwa garis-garis pengeluaran boleh terganggu dengan pipa retak dan deposisi reaktor menjadi "dusty" dengan "kecil silikon partikel".

"Pasaran kesan bisa dan harus tinggi, karena TOPCon adalah upgrade untuk sedia ada mono MIN garis-garis," kata Simon Harga, CEO Exawatt. Di memberikan konteks, Harga berkata Exawatt dahulunya dinasihatkan terhadap atom lapisan deposisi (ALD) untuk MIN pengeluaran, kerana pemprosesan rendah. Bagaimanapun, setelah pemprosesan cabaran telah ditangani, ALD cepat berpindah ke arus pengeluaran –berdasarkan wujud kelebihan dalam segi unggul kawalan filem ketebalan.

"Jadi, jika PECVD adalah inheren proses yang lebih baik, maka anda bisa membuat argumen yang daya cabaran bisa dan akan terkenal," kata Harga.